怎樣檢測(cè)全自動(dòng)反滲透純水處理設(shè)備的膜是否污染與清潔方法
文章作者: 宏森環(huán)保
當(dāng)前全自動(dòng)反滲透純水處理設(shè)備在國(guó)內(nèi)各行業(yè)中廣泛是使用，多用于醫(yī)藥、電子、化工、醫(yī)院等行業(yè)，宏森環(huán)保核心技術(shù)主要采取反滲透工藝，已達(dá)到實(shí)驗(yàn)室、醫(yī)院等行業(yè)的純化水的制取和需求要求。
在全自動(dòng)反滲透純水處理設(shè)備正常運(yùn)行一段時(shí)間后，反滲透膜元件會(huì)受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中較常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或生物沉積物。污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，如果不早期采取措施，污染將會(huì)在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件的性能。定期檢測(cè)系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個(gè)好方法，不同的污染物會(huì)對(duì)膜元件性能造成不同程度的損害。下面宏森環(huán)保讓你了解常見污染物及其去除方法：
1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導(dǎo)致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積。出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長(zhǎng)的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3.0～5.0之間運(yùn)行1～2小時(shí)的方法去除。對(duì)沉淀時(shí)間更長(zhǎng)的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用檸檬酸清洗液進(jìn)行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
2、硫酸鈣垢
清洗液2是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的較佳方法。
3、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
4、硅垢
對(duì)于不是與金屬化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ?，有關(guān)的詳細(xì)方法清與公司聯(lián)系。
5、有機(jī)沉積物
有機(jī)沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)公司認(rèn)可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡。一般需較長(zhǎng)時(shí)間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時(shí)，較好采用消毒處理，請(qǐng)與海德能公司會(huì)商以確定適宜的殺菌劑。
6、清洗液
清洗反滲透膜元件時(shí)建議采用所列的清洗液。確定清洗前對(duì)污染物進(jìn)行化學(xué)分析十分重要的，對(duì)分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇較佳的清洗劑及清洗方法，應(yīng)記錄每次清洗時(shí)清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出較佳的清洗方法提供依據(jù)。對(duì)于無機(jī)污染物建議使用清洗液1。對(duì)于硫酸鈣及有機(jī)物建議使用清洗液2。對(duì)于嚴(yán)重有機(jī)物污染建議使用清洗液3。所有清洗可以在較高溫度為華氏104度(攝氏40℃)下清洗60分鐘，所需用品量以每100加侖(379升)中加入量計(jì)，配制清洗液時(shí)按比例加入藥品及清洗用水，應(yīng)采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來配制溶液并混合均勻。
